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内容简介:
本书集中介绍了薄膜科学中的关键部分薄膜生长。全书由五个方面15章的内容组成: 至四章主要从薄膜的角度介绍相平衡和晶体表面原子结构的基础知识。第五至七章主要介绍薄膜中的缺陷和扩散。第八、九章主要介绍薄膜生长的三种模式和成核长大动理学。第十至十三章主要介绍金属薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜的生长和生长中出现的分形现象。第十四、十五章介绍薄膜制备和研究的各种方法。本书不仅系统地介绍了有关薄膜生长的固体物理学知识,而且介绍了薄膜生长的前沿进展和薄膜检测的各种 方法。《BR》 本书可作为固体物理、材料科学专业的研究生教学用书,也可供从事薄膜研制和生产的科技人员参考。
书籍目录:
第二版前言
版前言
章 相平衡和界面相
1.1 相平衡
1.2 元素和合金的相图
1.3 固溶体的能量
1.4 固溶体的组态熵
1.5 界面相
1.6 界面曲率半径对压强的影响
1.7 晶体表面能、界面能和黏附能
1.8 固体表面张力的测定方法
1.9 表面能对薄膜稳定性的影响
参考文献
2.1 晶体的对称性
2.1.1 晶体的平移对称性(平移群)
2.1.2 14种布拉维点阵和7种晶系
2.1.3 32种点群
2.1.4 230种空间群
2.1.5 群的基本概念
2.2 晶体表面的对称性
2.2.1 晶体表面的平移对称性
2.2.2 5种二维布拉维点阵和4种二维晶系
2.2.3 10种二维点群
2.2.4 17种二维空间群
2.3 晶面间距和晶列间距公式
2.3.1 晶面间距公式
2.3.2 晶列间距公式
2.4 倒易点阵
2.4.1 三维倒易点阵
2.4.2 二维倒易点阵
2.4.3 倒易点阵矢量和晶列、晶面的关系
参考文献
第三章 晶体表面原子结构
3.1 一些晶体表面的原子结构
3.2 表面原子的配位数
3.3 表面的台面-台阶-扭折(TLK)结构
3.4 邻晶面上原子的近邻数
3.5 晶体表面能的各向异性
3.6 台阶和台面的粗糙化
参考文献
第四章 再构表面和吸附表面
4.1 再构表面和吸附表面结构的标记
4.2 半导体再构表面结构
4.2.1 Si(111)
4.2.2 Si(001)
4.2.3 Si(110)
4.2.4 Ge(111)
4.2.5 Ge(001)
4.2.6 GeSi(111)
4.2.7 GaAs(110)
4.2.8 GaAs(001)
4.2.9 GaAs(111)
4.3 金属再构表面结构
4.4 吸附表面结构
4.4.1 物理吸附和化学吸附
4.4.2 Si吸附表面
4.4.3 Ge吸附表面
4.4.4 GaAs吸附表面
4.4.5 金属的吸附表面
4.5 表面相变
……
第五章 薄膜中的晶体缺陷
第六章 外延薄膜中缺陷的形成过程
第七章 薄膜中的扩散
第八章 薄膜的成核长大热力学
第九章 薄膜的成核长大动理学
第十章 金属薄膜的生长
第十一章 半导体薄膜的生长
第十二章 氧化物薄膜的生长
第十三章 薄膜中的分形
第十四章 薄膜的制备方法
第十五章 薄膜研究方法
索引
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书籍真实打分
故事情节:4分
人物塑造:9分
主题深度:8分
文字风格:9分
语言运用:9分
文笔流畅:5分
思想传递:9分
知识深度:7分
知识广度:9分
实用性:9分
章节划分:5分
结构布局:5分
新颖与独特:8分
情感共鸣:7分
引人入胜:6分
现实相关:3分
沉浸感:7分
事实准确性:5分
文化贡献:3分